多家光刻大厂扩产进行时：ASML公开年产690台扩充计划

近日，光刻龙头ASML在投资者日会议上表露其将扩张产能，至2026年该公司EUV年产量要达90台，并将启动120亿欧元的股票回购计划。

在投资者日会议上，ASML向其位于荷兰费尔德霍芬总部以及在线参加会议的投资者和主要利益相关者披露了ASML对需求前景的最新看法。ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink和ASML执行副总裁兼首席财务官Roger Dassen讨论ASML的长期战略、大趋势、需求、产能计划和商业模式，以支持公司的未来增长。

在未来预期上，ASML上调了业绩预期，预计2025年的营收为300亿到400亿欧元。ASML认为，虽然当前宏观环境带来了短期的不确定性，但市场对其的长期需求和公司产能将稳定发展。不断扩大的应用空间和行业创新将继续推动半导体市场的增长。

具体措施上，ASML计划扩大旗舰EUV设备产量。在2025年到2026年，将年产90台EUV（极紫外光）光刻机和600台DUV（深紫外光）光刻机。在2027年到2028年，增产20个系统High-NA EUV光刻机。

同时ASML同步宣布启动了一项高达120亿欧元的股票回购计划。ASML称，计划以持续成长的股息和股票回购方式，向股东发放现金，即日生效。该公司计划将多达200万股股票用于员工分红，同时将注销剩余的回购股份，该计划将于2025年12月31日之前执行。

公开资料显示，在全球半导体光刻机市场，ASML、尼康、佳能占据90%以上的市场份额。除了光刻机龙头ASML外，日本两大光刻机企业尼康和佳能较早宣布其扩产计划。

尼康光刻设备新的业务发展目标是截止到2026年3月份，光刻机的年出货量将比目前3年的平均水平增加一倍以上。

佳能方面，在今年10月4日，佳能宣布将投资超过500亿日元（约合人民币24.6亿元）在日本东部枥木县新建一座半导体设备工厂，目标将当前半导体设备产能提高一倍。该计划在2023年动工，2025年春季开始运营。

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